半导体、液晶和电池产业应用

应用示例

薄膜形成装置	利用真空中的性质和反应形成并加工薄膜的装置。它是目前应用最广泛的真空设备，从光学透镜和玻璃薄膜到硅晶圆的薄膜形成和加工，其他MEMS和太阳能电池的形成，以及FPD的制造等领域都有应用。
蚀刻设备	该设备使用溶液、反应气体和离子的化学反应，在真空中对薄膜的形状进行化学腐蚀和蚀刻。
灰化设备	用于分解和去除光刻胶的抗蚀剂剥离，加热和燃烧样品，使其形成无机化合物。
涂布机显影剂	用于涂抹和显影感光剂的装置。将光刻胶涂抹在晶圆上后，在真空泵中减压和干燥多余的溶剂。
锂离子电池	在电池形成、电极除气、电极干燥和注液等过程中使用真空。